-
Alat Ganti Seramik untuk Peralatan Probe Semikonduktor
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Pembawa Peralatan Semikonduktor Plat Seramik
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Alat Ganti Seramik Peralatan Semikonduktor
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Cincin Meterai Seramik Alumina Ketulenan Tinggi untuk Pengedap Ruang Suhu Tinggi
Cincin pengedap seramik St.Cera direka bentuk sebagai alternatif kepada cincin-O polimer dalam persekitaran ekstrem di mana elastomer terdegradasi. Diperbuat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃), cincin pengedap tegar ini digunakan dalam aplikasi pengedap statik — biasanya dipasangkan dengan logam lembut atau gasket grafit — untuk menyediakan pembendungan vakum atau gas yang boleh dipercayai pada suhu sehingga 800°C dan dalam persekitaran plasma atau kimia yang agresif. Bahan ini menawarkan sifar gas keluar, kekuatan mampatan yang tinggi (kekuatan lenturan asas 361 MPa), dan inert kimia (tahan terhadap halogen, asid dan alkali kecuali HF). Permukaan pengedap yang dilekatkan dengan ketepatan (kerataan ≤5 μm, kekasaran permukaan Ra ≤0.2 μm) memastikan sentuhan kedap bocor dengan komponen logam atau seramik yang sepadan.
-
Cincin Fokus Kebuk Alumina Ketulenan Tinggi untuk Sistem Etsa Plasma & CVD
Cincin fokus ruang St.Cera ialah komponen kit proses kritikal yang digunakan dalam peralatan semikonduktor etsa plasma, CVD dan PVD. Diperbuat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃), cincin ini mengelilingi tepi wafer untuk mengurung plasma dan mengoptimumkan taburan sudut ion, sekali gus meningkatkan keseragaman etsa merentasi permukaan wafer. Bahan ini menawarkan rintangan plasma yang luar biasa, kekuatan dielektrik yang tinggi (15×10⁶ V/m), dan kestabilan haba sehingga 1600°C, memastikan kebolehpercayaan jangka panjang dalam persekitaran plasma berasaskan fluorin atau klorin yang agresif. ID/OD dan kerataan pembumian ketepatan (≤10 μm) membolehkan kedudukan tepi wafer yang tepat, mengurangkan kecacatan tepi dan penjanaan zarah.
-
Cincin Seramik Alumina Ketulenan Tinggi untuk Ruang Proses CVD / PVD
Cincin seramik St.Cera direka khusus untuk digunakan dalam ruang proses CVD (Pemendapan Wap Kimia) dan PVD (Pemendapan Wap Fizikal). Diperbuat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃), cincin ini berfungsi sebagai pelapik ruang, cincin fokus atau komponen kit proses untuk mengurung plasma dan melindungi dinding ruang daripada hakisan. Bahan ini menawarkan rintangan plasma yang sangat baik, kekuatan dielektrik yang tinggi (15×10⁶ V/m), dan kestabilan haba sehingga 1600°C, memastikan hayat perkhidmatan yang panjang dalam persekitaran plasma berasaskan fluorin yang agresif. Toleransi dimensi yang tepat (±0.05 mm pada ID/OD) dan kerataan (≤10 μm) membolehkan kedudukan tepi wafer yang konsisten, meningkatkan keseragaman pemendapan dan mengurangkan penjanaan zarah.
-
Efektor Hujung Seramik Bernoulli — Pengendalian Wafer Tanpa Sentuhan untuk Wafer Nipis & Rapuh
Efektor hujung seramik Bernoulli St.Cera menggunakan daya angkat aerodinamik untuk mengendalikan wafer tanpa sentuhan fizikal. Diperbuat daripada alumina (Al₂O₃) atau silikon karbida (SiC) 99.8% ketulenan tinggi, ia mempunyai muncung mesin jitu yang mengeluarkan gas bertekanan untuk menghasilkan filem udara nipis antara efektor hujung dan wafer. Prinsip tanpa sentuhan ini menghapuskan pencemaran bahagian belakang, keretakan tepi dan kerosakan permukaan, menjadikannya sesuai untuk wafer nipis (≤100 μm), rapuh atau melengkung. Substrat seramik memberikan kekuatan lenturan yang tinggi (361 MPa untuk Al₂O₃; sehingga 550–600 MPa untuk SiC), jisim rendah dan kestabilan dimensi yang sangat baik, memastikan kedudukan berulang dalam robot pemindahan wafer berkelajuan tinggi.
-
Bahagian Seramik Alumina Ketulenan Tinggi untuk Aplikasi Semikonduktor & Perindustrian
St.Cera mengeluarkan bahagian seramik alumina (Al₂O₃) yang dimesin dengan tepat mengikut spesifikasi pelanggan. Menggunakan alumina berketulenan tinggi 99.8%, komponen ini memberikan kekuatan lenturan yang sangat baik (361 MPa), kekerasan yang tinggi (16 GPa), dan kekuatan dielektrik yang luar biasa (15×10⁶ V/m). Direka untuk peralatan semikonduktor, pemasangan tahan haus, penebat elektrik dan lekapan suhu tinggi, bahan ini menawarkan penyerapan air hampir sifar (0%) dan pekali pengembangan haba 7.2×10⁻⁶/℃, memastikan kestabilan dimensi di bawah keadaan yang melampau.
-
Chuck Vakum Seramik Berliang untuk Pengendalian Wafer Melengkung
Chuck seramik berliang St.Cera direkayasa daripada alumina berketulenan tinggi dengan keliangan terbuka seragam 30–45% dan saiz liang antara 10 hingga 100 μm. Tidak seperti chuck beralur konvensional, permukaan berliang menyediakan vakum teragih merentasi keseluruhan bahagian belakang wafer, dengan berkesan memegang wafer yang melengkung, nipis atau tersimpul tanpa terkeluar atau rosaknya tepi. Vakum lembut (boleh dilaraskan melalui penyekat) juga menghalang penandaan bahagian belakang.
-
Chuck Vakum Seramik Berliang Berasaskan Alumina untuk Pengendalian Wafer Nipis
Chuck berliang berasaskan alumina St.Cera diperbuat daripada 99.6% Al₂O₃ berketulenan tinggi dengan keliangan terbuka terkawal sebanyak 30–45% dan saiz liang seragam antara 10 hingga 50 μm. Tidak seperti chuck beralur, permukaan berliang menyediakan vakum teragih merentasi keseluruhan bahagian belakang wafer, menghapuskan tanda tepi dan membolehkan pegangan lembut wafer ultra nipis (≤100 μm) atau wafer melengkung. Bahan ini menawarkan kekuatan lenturan ≥250 MPa dan kestabilan haba sehingga 400°C di udara.
-
Plat Pengedaran Gas Alumina untuk Kepala Pancuran CVD/PVD
Plat agihan gas (kepala pancuran) St.Cera dimesin dengan ketepatan daripada seramik alumina 99.8% ketulenan tinggi. Ia mempunyai pelbagai lubang mikro (diameter 0.3–1.5 mm) yang memastikan aliran gas seragam merentasi permukaan wafer semasa proses CVD, PVD atau ALD. Kekuatan dielektrik plat yang tinggi (>15×10⁶ V/m) dan rintangan plasma menjadikannya penting untuk pemendapan filem nipis semikonduktor.
-
Pin Sokongan Seramik untuk Lekapan Proses Semikonduktor
Pin penyokong seramik St.Cera (juga dikenali sebagai pin angkat atau pin sokongan) digunakan dalam ruang proses semikonduktor untuk mengangkat wafer atau substrat semasa pengendalian, pemanasan atau penyejukan. Diperbuat daripada 99.8% alumina atau silikon nitrida, pin ini menawarkan kekuatan mampatan yang tinggi, kestabilan haba dan rintangan kimia. Reka bentuk hemisfera atau hujung rata menghalang calar wafer.
