sepanduk_halaman

Produk

  • Komponen Seramik Alumina 99.5% Tersuai ST.CERA

    Komponen Seramik Alumina 99.5% Tersuai ST.CERA

    Diperbuat daripada serbuk seramik berketulenan tinggi, komponen seramik dibentuk melalui penekanan kering atau penekanan isostatik sejuk, dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dengan tepat. Ia digunakan secara meluas dalam peralatan semikonduktor, komunikasi optik, laser, peralatan perubatan, petroleum, metalurgi, industri elektronik dengan ciri-cirinya seperti rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan lelasan dan penebat.

  • Efektor Hujung Seramik Anti-Statik Alumina

    Efektor Hujung Seramik Anti-Statik Alumina

    Dengan ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan lelasan dan penebat, seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.

    Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.

  • Seramik Semikonduktor Pengendalian Wafer Alumina

    Seramik Semikonduktor Pengendalian Wafer Alumina

    Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.

    Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.

    Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.

    Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.

    Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.

    Direka untuk digunakan dalam atmosfera.

  • Pengendalian wafer bagi Efektor Hujung Seramik

    Pengendalian wafer bagi Efektor Hujung Seramik

    Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.

    Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.

    Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.

    Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.

    Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.

    Direka untuk digunakan dalam atmosfera.

  • Seramik Semikonduktor Lengan Pengendalian Wafer Seramik Alumina Seramik Kepersisan

    Seramik Semikonduktor Lengan Pengendalian Wafer Seramik Alumina Seramik Kepersisan

    Dengan ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan lelasan dan penebat, seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.

    Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.

  • Komponen Peralatan Semikonduktor Lengan Seramik Alumina Bertebat

    Komponen Peralatan Semikonduktor Lengan Seramik Alumina Bertebat

    Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.

    Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.

    Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.

    Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.

    Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.

    Direka untuk digunakan dalam atmosfera

  • Bentuk Kompleks Seramik Kepersisan Lengan Seramik Pengendalian Wafer

    Bentuk Kompleks Seramik Kepersisan Lengan Seramik Pengendalian Wafer

    Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.

    Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.

    Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.

    Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.

    Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.

    Direka untuk digunakan dalam atmosfera

     

  • Lengan Robot Seramik Alumina dengan Tahan Haus dan Kekerasan Tinggi

    Lengan Robot Seramik Alumina dengan Tahan Haus dan Kekerasan Tinggi

    Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.

    Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.

    Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.

    Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.

    Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.

    Direka untuk digunakan dalam atmosfera

  • Pengendalian Wafer Efektor Hujung Seramik Alumina

    Pengendalian Wafer Efektor Hujung Seramik Alumina

    Dengan ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan lelasan dan penebat, seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.

    Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.

  • Komponen Mekanikal Seramik untuk Peralatan Khas

    Komponen Mekanikal Seramik untuk Peralatan Khas

    Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.

    Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.

    Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.

    Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.

    Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.

    Direka untuk digunakan dalam atmosfera

  • Rod Seramik Alumina Tahan Lelasan Suhu Tinggi

    Rod Seramik Alumina Tahan Lelasan Suhu Tinggi

    Diperbuat daripada serbuk seramik berketulenan tinggi, tiub seramik dibentuk melalui penekanan kering atau penekanan isostatik sejuk, dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dengan ketepatan. Dengan banyak kelebihan seperti rintangan lelasan, rintangan kakisan, kekerasan yang tinggi, ketahanan yang tinggi dan pekali geseran yang rendah, ia digunakan secara meluas dalam peralatan perubatan, jentera ketepatan, laser, metrologi dan peralatan pemeriksaan. Ia boleh berfungsi dalam keadaan asid dan alkali untuk jangka masa yang lama, dan suhu maksimum boleh sehingga 1600℃.

     

  • Tiub Seramik Zirkonia Ketepatan Tersuai ST.CERA

    Tiub Seramik Zirkonia Ketepatan Tersuai ST.CERA

    Diperbuat daripada serbuk seramik berketulenan tinggi, tiub seramik dibentuk melalui penekanan kering atau penekanan isostatik sejuk, dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dengan ketepatan. Dengan banyak kelebihan seperti rintangan lelasan, rintangan kakisan, kekerasan yang tinggi, ketahanan yang tinggi dan pekali geseran yang rendah, ia digunakan secara meluas dalam peralatan perubatan, jentera ketepatan, laser, metrologi dan peralatan pemeriksaan. Ia boleh berfungsi dalam keadaan asid dan alkali untuk jangka masa yang lama, dan suhu maksimum boleh sehingga 1600℃.