-
Seramik Semikonduktor Pengendalian Wafer Alumina
Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.
Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.
Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.
Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.
Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.
Direka untuk digunakan dalam atmosfera.
-
Pengendalian wafer bagi Efektor Hujung Seramik
Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.
Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.
Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.
Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.
Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.
Direka untuk digunakan dalam atmosfera.
-
Seramik Semikonduktor Lengan Pengendalian Wafer Seramik Alumina Seramik Kepersisan
Dengan ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan lelasan dan penebat, seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Komponen Peralatan Semikonduktor Lengan Seramik Alumina Bertebat
Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.
Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.
Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.
Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.
Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.
Direka untuk digunakan dalam atmosfera
-
Bentuk Kompleks Seramik Kepersisan Lengan Seramik Pengendalian Wafer
Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.
Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.
Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.
Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.
Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.
Direka untuk digunakan dalam atmosfera
-
Lengan Robotik Seramik Alumina dengan Tahan Haus dan Kekerasan Tinggi
Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.
Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.
Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.
Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.
Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.
Direka untuk digunakan dalam atmosfera
-
Pengendalian Wafer Efektor Hujung Seramik Alumina
Dengan ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan lelasan dan penebat, seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Komponen Mekanikal Seramik untuk Peralatan Khas
Cegah zarah-zarah yang boleh terhasil daripada tepi serong atau bersudut dan permukaan belakang semasa wafer diangkut atau bersentuhan dengan End Effector / Handling Arm.
Untuk panduan, bahan lembut yang tidak merosakkan wafer telah digunakan.
Penipisan boleh dilakukan dengan teknologi saluran vakum terbina dalam ST.CERA yang tidak menggunakan pelekat.
Lubang pelekap dan perubahan panjang serta lebar tapak tempat End Effector / Handling Arm dipasang pada robot boleh dibuat.
Sensor pemasangan, skru dan pendakap tersedia sebagai pilihan.
Direka untuk digunakan dalam atmosfera
-
Pemesinan dan Penebukan Ketepatan Rod Seramik Alumina
Diperbuat daripada serbuk seramik berketulenan tinggi, rod seramik dibentuk melalui penekanan kering atau penekanan isostatik sejuk, dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dengan ketepatan. Dengan banyak kelebihan seperti rintangan lelasan, rintangan kakisan, kekerasan yang tinggi, ketahanan yang tinggi dan pekali geseran yang rendah, ia digunakan secara meluas dalam peralatan perubatan, jentera ketepatan, laser, metrologi dan peralatan pemeriksaan. Ia boleh berfungsi dalam keadaan asid dan alkali untuk jangka masa yang lama, dan suhu maksimum boleh sehingga 1600℃.
-
Seramik Ketepatan Alumina untuk Kegunaan Tersuai
Bahagian struktur seramik ialah istilah umum bagi pelbagai bentuk rumit bahagian seramik. Ia dibentuk melalui penekanan kering atau penekanan isostatik sejuk, dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dengan tepat.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 400℃~800℃.
-
Cincin Seramik Ketepatan Alumina
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
lengan seramik alumina
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
